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セッチャク ト セキソウ
接着と積層 / 井上幸彦 [ほか] 編
(高分子工学講座 / 高分子学会編 ; 9)

データ種別 図書
出版情報 東京 : 地人書館 , 1965.7
本文言語 日本語
大きさ 2, 2, 2, 224p ; 22cm

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北1F 旧和書
578 010270191


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著者標目 井上, 幸彦 共編 <イノウエ, ユキヒコ>
高分子学会 <コウブンシ ガッカイ>
件 名 NDLSH:高分子化学工業
書誌ID TW00103872
NCID BN03989062

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